设备概要

- 黄光工程 (Photo Resist ・ HMDS ・ 显影液 ・ 薄膜等 )

- 蝕刻工程 (HNO3 ・ HF ・ Al-Etch ・ ITO-Etch 等 )

- 剥离工程 ( 剥离液等 )

- 洗净工程 (H2SO4 ・ H2O2 ・ NH4OH ・ HCI ・ IPA 等 )

保证精度 ( 实施案例 )

- 超LSI 洗净用药液

・ 0.1um 以上的 Particle ≦ 10pcs/ml

・ 不纯物 : 0.005ppb 以下

设备纳入实绩

- 68 社 1,500 套系统以上